科技日?qǐng)?bào)（記者馬愛平）“針對(duì)光刻機(jī)等苛刻測(cè)量環(huán)境中實(shí)現(xiàn)多自由度干涉測(cè)量的需求，我們提出了基于棱鏡誤差矢量分析的單體集成多軸干涉儀組件設(shè)計(jì)方法，研發(fā)出從2軸到5軸的系列化單體式多軸干涉儀組件，打破了國外企業(yè)的壟斷和對(duì)我國的出口限制。”清華大學(xué)長聘教授、精密儀器系學(xué)術(shù)委員會(huì)主任李巖告訴記者。

激光干涉測(cè)量是實(shí)現(xiàn)超精密測(cè)控和微納尺度測(cè)量的最有效手段之一。在國家重大科技專項(xiàng)“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”（02專項(xiàng)）等項(xiàng)目支持下，由李巖等完成的“高測(cè)速多軸高分辨率激光干涉測(cè)量技術(shù)與儀器”項(xiàng)目，突破一系列關(guān)鍵技術(shù)瓶頸，形成了測(cè)量新方法、系統(tǒng)及儀器。

李巖介紹，項(xiàng)目實(shí)現(xiàn)了從干涉儀組件、信號(hào)探測(cè)解調(diào)到多自由度探測(cè)方案設(shè)計(jì)的全鏈條自研開發(fā)的高測(cè)速、多軸大量程、高分辨率激光干涉測(cè)量系統(tǒng)。

截至目前，項(xiàng)目團(tuán)隊(duì)所研發(fā)的光刻機(jī)用雙頻激光干涉儀系統(tǒng)，應(yīng)用到我國自研光刻機(jī)工件臺(tái)樣機(jī)研發(fā)過程中，累計(jì)應(yīng)用50余臺(tái)套，滿足了光刻機(jī)雙工件臺(tái)樣機(jī)的精密測(cè)量需求，減輕了對(duì)國外高端干涉儀的依賴，降低了其產(chǎn)品對(duì)我國出口限制所造成的研發(fā)風(fēng)險(xiǎn)。

李巖說，比如項(xiàng)目開發(fā)的亞納米分辨率可溯源外差干涉儀，應(yīng)用到激光多維測(cè)量系統(tǒng)研究與開發(fā)的比對(duì)檢定研究中，找出了激光多維測(cè)量系統(tǒng)非線性誤差原因，并用專門的電路加以校正，提高了相關(guān)單位激光多維測(cè)量系統(tǒng)的性能，所提出的可溯源干涉測(cè)量新方法，為摩爾單位采用阿伏伽德羅常數(shù)重新定義作出了貢獻(xiàn)。

“項(xiàng)目的成功，打破了外國對(duì)我國高端激光干涉測(cè)量儀器的限制和壟斷，為我國高端裝備和儀器研發(fā)提供性能穩(wěn)定且不受制于外國的測(cè)量及溯源能力，豐富了激光干涉測(cè)量理論與技術(shù)，具有非常重要的技術(shù)、經(jīng)濟(jì)和社會(huì)效益?！崩顜r說。